桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀 參考價(jià)：90000
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍。
近距離有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐 參考價(jià)：90000
近距離有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐，具有11“外徑的石英管。它是專為PVD或CSS(近距離升華)薄膜涂層3英寸直徑或2“×2“。近距離蒸...
OLED有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱 參考價(jià)：90000
OLED有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱以金屬/有機(jī)源蒸發(fā)為主體，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等
卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長(zhǎng)，大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物等
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：80000
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對(duì)氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。
5英寸近源有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐 參考價(jià)：70000
5英寸近源有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐，它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽能電池。
三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：60000
三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：60000
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：60000
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：50000
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機(jī)物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：50000
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅?..
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：250000
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計(jì)，腔體空間大，可拓展性強(qiáng)，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺(tái)，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或...
桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
本產(chǎn)品為桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀 參考價(jià)：90000
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
小型電動(dòng)升降樣品臺(tái)蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
小型電動(dòng)升降樣品臺(tái)蒸發(fā)鍍膜儀為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍...
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：250000
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對(duì)氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：100000
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅?..
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：250000
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學(xué)元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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